Conocimiento ¿Cómo se compara una anchura de pulso larga con una anchura de pulso corta en la depilación láser? Domina el control del daño térmico
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Equipo técnico · Belislaser

Actualizado hace 2 días

¿Cómo se compara una anchura de pulso larga con una anchura de pulso corta en la depilación láser? Domina el control del daño térmico


Una anchura de pulso larga, como 400 ms, cambia fundamentalmente el mecanismo de acción de una destrucción inmediata e intensa a una acumulación gradual y controlada de calor.

Mientras que las anchuras de pulso cortas (por ejemplo, 3 ms) se basan en ráfagas agresivas de energía para destruir el vello antes de que el calor pueda escapar, una anchura de pulso larga permite un aumento de temperatura suave y sostenido. Esta duración extendida se alinea con el Tiempo de Daño Térmico (TDT) del tejido, dando a la epidermis circundante tiempo para disipar el calor y enfriarse mientras el folículo es destruido. Esto resulta en una reducción significativa de los efectos secundarios y una distribución más uniforme del calor dentro del folículo en comparación con la tecnología de pulso corto.

La Clave Fundamental Los anchos de pulso cortos se basan en el confinamiento, golpeando el objetivo rápidamente antes de que el calor se propague. Los anchos de pulso largos se basan en la gestión, entregando energía lo suficientemente lentamente como para preservar la piel, pero lo suficientemente eficientemente como para destruir uniformemente el folículo.

La Mecánica de la Entrega de Calor

Pulso Corto: El Pico Instantáneo

La tecnología de pulso corto, que a menudo opera alrededor de 3 ms, está diseñada basándose en la teoría del Tiempo de Relajación Térmica (TRT).

El objetivo es entregar una ráfaga de energía de alta intensidad más rápido de lo que el folículo piloso puede enfriarse.

Debido a que la liberación de energía es casi instantánea, permanece muy localizada dentro del folículo. Esto crea un pico intenso de calor que destruye el tejido objetivo rápidamente antes de que pueda difundirse en la dermis circundante.

Pulso Largo: La Acumulación Gradual

Una anchura de pulso larga, como 400 ms, opera según el principio del Tiempo de Daño Térmico (TDT) en lugar de solo el tiempo de relajación.

En lugar de una "explosión" térmica, el láser proporciona un flujo continuo de energía de menor intensidad.

Este enfoque resulta en un calentamiento gradual y uniforme de toda la estructura del folículo piloso. Evita las temperaturas pico violentas asociadas con pulsos más cortos, apuntando en cambio a un efecto de calentamiento acumulativo que asegura la destrucción total del folículo.

Control del Daño Térmico y Seguridad

Protegiendo la Epidermis

La ventaja más crítica de una anchura de pulso larga es la protección de la superficie de la piel (epidermis).

Durante un pulso de 400 ms, la epidermis tiene tiempo suficiente para disipar el calor en el aire o en un gel refrigerante.

En contraste, los pulsos cortos entregan energía tan rápidamente que la epidermis experimenta un calentamiento rápido junto con el vello. Si la piel contiene pigmento competitivo (melanina), los pulsos cortos presentan un mayor riesgo de quemaduras superficiales porque la piel no puede enfriarse durante el breve pico de energía.

Uniformidad de la Destrucción

Los pulsos cortos a veces pueden dañar el tallo del vello sin destruir completamente las estructuras regenerativas del folículo si el calor no penetra de manera uniforme.

Las anchuras de pulso largas permiten que la energía térmica se transfiera del tallo del vello rico en melanina a toda la estructura del folículo.

Esto asegura que se alcance el umbral de destrucción requerido en todo el folículo, minimizando la posibilidad de rebrotes mientras se mantiene seguro el colágeno y el tejido circundante.

Comprendiendo las Compensaciones

El Riesgo de Difusión de Calor

Si bien los pulsos largos son más seguros para la superficie, técnicamente permiten más tiempo para que el calor se conduzca lejos del objetivo.

Por lo tanto, la tecnología debe ser precisa: debe mantener el calor el tiempo suficiente para matar el folículo, pero no tanto como para causar un "calentamiento masivo" de la dermis circundante.

Intensidad vs. Comodidad

Los pulsos cortos a menudo se perciben como más agudos o dolorosos debido al "chasquido" de la alta potencia pico.

Los pulsos largos generalmente se perciben como un aumento gradual de la calidez.

Sin embargo, si el mecanismo de enfriamiento falla durante un pulso largo, el dolor puede volverse sostenido. El enfriamiento por contacto efectivo es esencial cuando se utilizan duraciones de pulso largas para mantener el margen de seguridad de la epidermis.

Tomando la Decisión Correcta para Tu Objetivo

Para seleccionar la estrategia de anchura de pulso apropiada, considera la prioridad del tratamiento:

  • Si tu enfoque principal es la Seguridad Epidérmica: Un pulso largo (400 ms) es superior, ya que permite que la piel disipe el calor durante el disparo, reduciendo el riesgo de quemaduras y efectos secundarios.
  • Si tu enfoque principal es la Localización Agresiva: Un pulso corto (3 ms) es efectivo para confinar la energía estrictamente dentro del objetivo, siempre que el tipo de piel del paciente pueda tolerar la rápida intensidad.

En última instancia, una anchura de pulso larga intercambia la velocidad de entrega térmica por la seguridad del control térmico, asegurando que el folículo sea destruido sin sacrificar la integridad de la piel.

Tabla Resumen:

Característica Pulso Corto (ej., 3 ms) Pulso Largo (ej., 400 ms)
Mecanismo Pico de energía instantáneo Acumulación gradual de calor
Principio Tiempo de Relajación Térmica (TRT) Tiempo de Daño Térmico (TDT)
Seguridad Epidérmica Mayor riesgo de quemaduras superficiales Superior; permite disipación de calor
Comodidad del Paciente Sensación de "chasquido" agudo Calor creciente
Mejor Para Localización agresiva Máxima seguridad y tipos de piel más oscuros

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Referencias

  1. Leila Ataie‐Fashtami, Hanieh Mohammadreza. Simulation of Heat Distribution and Thermal Damage Patterns of Diode Hair-Removal Lasers: An Applicable Method for Optimizing Treatment Parameters. DOI: 10.1089/pho.2010.2895

Este artículo también se basa en información técnica de Belislaser Base de Conocimientos .

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